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PEEK在半導(dǎo)體領(lǐng)域大展身手

所屬分類:行業(yè)資訊點擊次數(shù):1727 次發(fā)布日期:2021-08-04 15:43

由于新冠疫情的持續(xù),以及通信設(shè)備、消費電子、汽車等各領(lǐng)域?qū)π酒男枨筮€在不斷增加,全球的芯片缺貨漲價潮愈演愈烈。芯片是信息技術(shù)產(chǎn)業(yè)重要的基礎(chǔ)性部件,同時也是影響整個高新技術(shù)領(lǐng)域的關(guān)鍵產(chǎn)業(yè)。

一顆芯片的制造工藝非常復(fù)雜,需經(jīng)過幾千道工序,加工的每個階段都面臨難點,包括極高的溫度、暴露于高度侵蝕性的化學(xué)品、極苛刻的清潔度要求等等。塑料在半導(dǎo)體制程中發(fā)揮重要作用,抗靜電塑料、PP、ABS、PC、PPS、氟材料、PEEK等塑料被廣泛應(yīng)用半導(dǎo)體制程中。今天我們先來看一看PEEK在半導(dǎo)體領(lǐng)域都有哪些應(yīng)用。


化學(xué)機械研磨(CMP)是半導(dǎo)體制造工藝的一個重要階段,需要具備嚴密的工藝控制、嚴格的規(guī)定公和高質(zhì)量的表面形狀和平面,小型化的發(fā)展趨勢進一步對工藝性能提出更高要求,因而對CMP固定環(huán)的性能要求也越來越高。


CMP固定環(huán)是用來在研磨過程中用來固定晶圓的,選擇的材料應(yīng)避免晶圓表面刮傷、污染等,通常使用標準型PPS制作。

PEEK具有較高的尺寸穩(wěn)定性、易于加工性、良好的機械性能、良好的耐化學(xué)腐蝕性以及良好的耐磨性,與PPS環(huán)相比,采用PEEK制成的CMP固定環(huán)耐磨性更強,使用壽命延長一倍,從而減少故障停機時間,提高晶圓產(chǎn)能。

晶圓制造過程繁復(fù)且要求苛刻,在這個過程中需要使用載具來保護、運送、并儲存晶圓,如前開式晶圓傳送盒(FOUP) 和晶片花籃。半導(dǎo)體載具有一般傳輸制程和酸堿制程使用之分,加熱和制冷過程的溫度變化以及化學(xué)處理過程會引起晶圓載具尺寸發(fā)生變化,從而導(dǎo)致晶片擦傷或者破裂。

PEEK可用于制作一般傳輸制程用載具,一般采用抗靜電PEEK(PEEK ESD),PEEK ESD擁有眾多優(yōu)異性能,耐磨性、耐化學(xué)腐蝕性、尺寸穩(wěn)定性、抗靜電性和低脫氣,有助于防止顆粒污染并提高晶圓搬運、存儲和轉(zhuǎn)移的可靠性,提高前開式晶圓傳送盒(FOUP)和花籃的性能穩(wěn)定性。


微影制程中用于圖形化的光罩須保持潔凈,任何附著于光罩上的塵埃或刮傷皆會導(dǎo)致投影成像的質(zhì)量劣化,因此,光罩無論是在制造、加工、裝運、運輸、儲存的過程中,都需要避免光罩的污染以及因碰撞或摩擦等產(chǎn)生微粒影響光罩的潔凈度。隨著半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)開始導(dǎo)入極紫外光(EUV)微影技術(shù),保持EUV光罩無缺陷的要求比以往任何時候都要高。


PEEK ESD 具高硬度、極少的顆粒產(chǎn)生量、高潔凈度、抗靜電、耐化學(xué)腐蝕性、耐磨損性、耐水解性、非常優(yōu)異的電介質(zhì)強度及出色的耐輻射性能等特性,在生產(chǎn)、傳送以及處理光罩過程中,可使光罩片存儲在低脫氣和低離子污染的環(huán)境中。


PEEK材料具有優(yōu)異的耐高溫特性,尺寸穩(wěn)定性、低釋氣性、低顆粒脫落、耐化學(xué)腐蝕、易加工等特性,可用于芯片測試,包括高溫矩陣盤、檢測插槽、柔性電路基板、預(yù)燒測試槽和連接器等。


PEEK具有耐高溫、耐磨性、尺寸穩(wěn)定好、低釋氣性以及低吸濕性等特性,用PEEK晶片夾夾取晶圓、硅片的時候,不會對晶圓、硅片的表面產(chǎn)生劃痕不會因摩擦而對晶圓、硅片產(chǎn)生殘留物,從而提高了晶圓、硅片的表面潔凈度。


抗靜電PEEK材料可用于制作真空吸筆的吸筆頭,用于吸附小尺寸晶圓,且不會造成晶圓的刮傷、污染。

隨著半導(dǎo)體生產(chǎn)自動化提高,可搭配采用抗靜電PEEK制成的真空無痕吸盤進行抓取和投放,PEEK材質(zhì)純度高,耐高溫,吸取物體時不留痕跡,無污染。

此外,隨著節(jié)能減排以及減少塑料污染的環(huán)保意識增強,半導(dǎo)體行業(yè)倡導(dǎo)綠色制造,特別是芯片市場需求強勁,而芯片生產(chǎn)需要的晶圓盒等部件需求量龐大,對環(huán)境影響不容小覷。因此,半導(dǎo)體行業(yè)將晶圓盒等經(jīng)過清洗后循環(huán)再利用以減少資源浪費。而PEEK在多次加熱后,性能損耗最小,100%可回收。

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